Hauni Protos Nano เวอร์ชันผ่านรู Mosfet Irfz44ns สำหรับเครื่อง Kretek

Hauni Protos Nano เวอร์ชันผ่านรู Mosfet Irfz44ns สำหรับเครื่อง Kretek

ทรานซิสเตอร์ซิลิคอน

ทรานซิสเตอร์ซิลิคอนที่ใช้งานได้ตัวแรกได้รับการพัฒนาที่ Bell Labs เมื่อวันที่ 26 มกราคม พ.ศ. 2497 โดย Morris Tanenbaumทรานซิสเตอร์ซิลิคอนเชิงพาณิชย์ตัวแรกผลิตโดย Texas Instruments ในปี 1954 นี่เป็นผลงานของ Gordon Teal ผู้เชี่ยวชาญด้านการปลูกผลึกที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งเคยทำงานที่ Bell Labs มาก่อน

ทรานซิสเตอร์ความถี่สูง

ทรานซิสเตอร์ความถี่สูงตัวแรกคือทรานซิสเตอร์เจอร์เมเนียมกั้นพื้นผิวที่พัฒนาโดย Philco ในปี 1953 ซึ่งสามารถทำงานได้สูงถึง 60 MHzสิ่งเหล่านี้ถูกสร้างขึ้นโดยการแกะสลักรอยกดลงในฐานเจอร์เมเนียมชนิด n จากทั้งสองด้านด้วยไอพ่นของอินเดียม (III) ซัลเฟตจนกระทั่งมีความหนาสองสามหมื่นนิ้วอินเดียมที่ชุบด้วยไฟฟ้าเข้าไปในร่องลึกทำให้เกิดตัวสะสมและตัวปล่อย

ทรานซิสเตอร์แบบจุดสัมผัส

ในปี ค.ศ. 1948 ทรานซิสเตอร์แบบจุดสัมผัสถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยอิสระโดยนักฟิสิกส์ชาวเยอรมัน เฮอร์เบิร์ต มาตาเร และไฮน์ริช เวลเกอร์ ขณะทำงานที่ Compagnie des Freins et Signaux Westinghouse ซึ่งเป็นบริษัทในเครือของ Westinghouse ที่ตั้งอยู่ในปารีสมาตาเรเคยมีประสบการณ์ในการพัฒนาเครื่องแปลงกระแสไฟฟ้าคริสตัลจากซิลิคอนและเจอร์เมเนียมในความพยายามเรดาร์ของเยอรมันในช่วงสงครามโลกครั้งที่สองโดยใช้ความรู้นี้ เขาเริ่มค้นคว้าเกี่ยวกับปรากฏการณ์ "การรบกวน" ในปีพ.ศ. 2490